2018年高考化学一轮复习每日一题--周末培优（含解析）
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高考频度：★★★★★ 难易程度：★★★☆☆
高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线：
已知：①RCHO+R1CH2COOH +H2O；
②由B生成C的反应属于加聚反应；
③D属于高分子化合物。
请回答下列问题：
（1）X生成Y的条件是 ；E的分子式为 。
（2）芳香烃I与A的实验式相同，经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2，则I的结构简式为 。推测I可能发生的反应类型是 (写出1种即可)。
（3）由E生成F的化学方程式为 。
（4）D和G反应生成H的化学方程式为 。
（5）G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有 种(不考虑立体异构)。
（6）参照上述合成路线，以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选)，设计制备 的合成路线。
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【参考答案】（1）光照 C7H8O
（2） 加成反应(或氧化反应、加聚反应、取代反应中的任意1种)
（3）2 +O2 2 +2H2O
（4）n + +nH2O
（5）4
（6）
苯甲醇，在O2/Cu、加热条件下，发生催化氧化反应生成苯甲醛和水。（4）D为聚乙烯醇，G为 ，D与G发生缩聚反应生成聚酯H。（5）G中含碳碳双键、羧基，与G具有相同官能团的芳香族化合物有4种，结构简式如下： 、 、
、 。（6）先由对二甲苯制备对二苯甲醛，再利用已知信息①，对二苯甲醛与乙酸在一定条件下发生反应可生成目标产物。因此，设计合成路线如下： 。
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