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2011高考化学课时作业--硅

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  • 2011高考化学硅课时作业

    班级                姓名                学号             等第             
    1、青石棉(cricidolite)是世界卫生组织确认的一种致癌物质,是《鹿特丹公约》中受限制的46种化学品之一,青石棉的化学式为:Na2Fe5Si8O22(OH)2,青石棉用稀硝酸溶液处理时,还原产物只有NO,下列说法正确的是  
      A.青石棉是一种易燃品且易溶于水
     B.青石棉的化学组成用氧化物的形式可表示为:Na2O•3FeO•Fe2O3•8SiO2•H2O
     C.1mol Na2Fe5Si8O22(OH)2与足量的硝酸作用,至少需消耗6L3mol/LHNO3溶液 
     D.1mol Na2Fe5Si8O22(OH)2与足量氢氟酸作用,至少需消耗5.5L2mol/LHF溶液
    2、工业上制取金刚沙(SiC)的反应为:SiO2+3C→SiC+2CO↑,其中氧化剂与还原剂的质量比A.60:36   B.36:60       C.2:1        D.1:2
    3、以氮化硅(Si3N4)和氧化铝(Al2O3)为原料,采用常压烧结或热压工艺制备赛伦(Sialan)。赛伦的化学通式为Si6-xAlxOxN8-x,以耐高温、高强度、超硬度、耐磨损、抗腐蚀等性能为主要特征,因此,在冶金、机械、光学、医学等领域有重要应用。它属于
    A.新型无机非金属材料         B.金属材料  
    C.有机高分子材料             D.无机高分子材料
    4、某溶液中含有NO 、SiO 、Al O 、S2-等四种阴离子,若向其中加入过量的盐酸溶液,微热并搅拌,再加入过量的NaOH溶液,则溶液中大量减少的阴离子是
    A.NO        B.SiO        C.  S2-         D.Al O
    5、有10 g不纯CaCO3样品与足量盐酸作用后生成4.44 g CO2,且溶液中残留难溶物质。则对于此样品中是否存在①MgCO3  ②K2CO3  ③SiO2杂质的判断正确的是
    A.肯定含①③,不含②      B.肯定含①③,可能含②
    C.肯定含②③,不含①      D.肯定含②③,可能含①
    6、CO2通入下列各溶液中,不会产生沉淀的是    
    A.CaCl2和Ba(NO3)2的混合液     B.BaCl2和NaOH的混合液
    C.Na2CO3饱和溶液              D.水玻璃(硅酸钠溶液)
    7、下列说法正确的是(N¬A表示阿佛加德罗常数)
    A. 常温下常压下,3g甲醛气体含有的原子数是0.4NA     
    B. 7. 95gCuO被CO完全还原,转移的电子数为0.1NA      
    C. 100mL1mol/L的Na3PO4溶液中含有离子数多于0.4NA  
    D.60gSiO2和12g金刚石中各含有4NA个Si—O键和4NA个C—C键
    8、关于硅的下列叙述中,不正确的是
    A.在自然界中,硅既能以游离态形式存在,又能以化合态形式存在
    B.在硅晶体中,含有由共价键形成的硅原子环,其中最小的环上有6个硅原子
    C.常温下,硅可与氟气、强碱溶液反应
    D.在加热条件下,硅可以与氧气、氯气、硝酸等物质反应
    9、有一根粗铝含铁和硅杂质,取等质量的样品分别投入足量的稀盐酸和稀氢氧化钠溶液中,放出氢气的质量相等,该粗铝含铁和硅的量的关系正确的是          
    ① 物质的量之比为2∶1② 物质的量之比为3∶1③ 质量之比为2∶1;④质量之比为4∶1           A.②④        B.②③        C.①④          D.只有④
    10、美国"9•11"恐怖袭击事件给纽约带来了一场严重的环境灾难——石棉污染,易使吸入石棉者患肺癌,已知石棉是硅酸盐矿物,某种石棉的化学式可表示为:Ca2MgxSiyO22(OH)2,X、Y的值分别为
    A.8,  3        B.5,  8         C.3,  8          D.5,  5


    11、C、Si、Ge、Sn是同族元素,该族元素单质及其化合物在材料、医药等方面有重要应用。请回答下列问题:
    (1)Ge的原子核外电子排布式为                          
    (2)C、Si、Sn三种元素的单质中,能够形成金属晶体的是              
    (3)按要求指出下列氧化物的空间构型、成键方式或性质
    ①CO2分子的空间构型及碳氧之间的成键方式                            ;
    ②SiO2晶体的空间构型及硅氧之间的成键方式                            ;
    ③已知SnO2是离子晶体,写出其主要物理性质             (写出2条即可)
    ④CO可以和很多金属形成配合物,如Ni(CO)4,Ni与CO之间的键型为         
    12、硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
    (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
     
    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式                                。
    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式                          ;H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是                                  。 
    (2)下列有关硅材料的说法正确的是         (填字母)。
    A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
    B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
    C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
    D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
    E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
    (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释                                                  。
    13、工业上用“三氯氢硅还原法”提纯粗硅的工艺流程如下图所示:
    ⑴三氯氢硅的制备原理:Si(s)+3HCl(g) SiHCl3(g)+H2(g) △H=-210 kJ/mol
    工业上为了加快SiHCl3生成速率而又不降低硅的转化率,可以采用的方法是         。
    ⑵除上述反应外,还伴随着副反应:Si(s)+4HCl(g) SiCl4(g)+2H2(g) △H=-241 kJ/mol。已知:SiHCl3、SiCl4常温下均为液体。
    ①工业上分离SiHCl3、SiCl4的操作方法为             。
    ②反应SiHCl3(g)+HCl(g)  SiCl4(g)+H2(g)的△H=          kJ/mol。
    ⑶该生产工艺中可以循环使用的物质是                    。
    ★14、将W g木炭与 同时装入一个装有压力表体积不变的密闭容器中,压力表所示压强为 ,高温下容器中木炭与 均完全反应后恢复到原温度,压力表的示数为 ,试求:(1)当W取值发生变化时,反应后压强P也发生变化,P的最大值(以 表示)是______。
    (2)以W表示满足题设条件的a的取值范围__________。

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