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广东省惠阳一中实验学校2011-2012学年高一3月月考化学试题

  • ※基本信息※
    • 资料类型:单元测试
    • 教材版本:人教版
    • 适用学校:不限
    • 所需点数:1点
    • 资料来源:收集
    • 资料作者:
    • 资料大小:173.77KB
    • 资料上传:admin
    • 资料审核:
    • 下载次数:19
    • 更新时间:2012-03-31 07:05:37
    • 上传时间:2012-03-31 07:05:59
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  • ※资料简介※
  •      2012年上学期高一年级3月月考化学试卷
                        命题人:刘士德
    考生注意:请将选择题的答案填在试卷后面的选择题答题卡上,答在试题区不给分;
    非选择题直接在试题上作答。
    一、单选题(每小题3分)
    1.铀(U)是重要的核工业原料,其中235  92U是核反应堆的燃料,下列关于235  92U和238  92U的说法正确的是:
    A.235  92U和238  92U都含有92个中子          B.235  92U和238  92U互为同位素
    C.235  92U和238  92U的核外电子数不同         D.235  92U和238  92U分别含有143和146个质子
    2.X、Y、Z是三种短周期的主族元素,在周期表中的位置如图,X原 子的最外层电子数是其次外层电子数的3倍,下列说法正确的是: 
    A.原子半径:X<Y<Z        
    B.气态氢化物的热稳定性:X>Z>Y
    C.y和z的最高价氧化物对应水化物均为强酸
    D.若z的最高正价为+m,则X的最高正价也一定为+m
    3.  将溶液或气体X慢慢的加入或通入到一定量的Y溶液中,Y溶液产生沉淀的量与X的物质的量的关系可以用如图表示的是 : 
    A.X为NaOH溶液,Y为AlCl3溶液
    B.X为CO2,Y为Ca(OH)2溶液
    C.X为NH3,Y为Al2(SO4)3溶液
    D.X为HCl,Y为Na[Al(OH)4]溶液
    4.  下列说法正确的是:    
    A.P和S属于第三周期元素,P原子半径比S小
    B.Na和Rb属于第ⅠA族元素,Rb失电子能力比Na强
    C.C和Si属于第ⅣA族元素,SiH4比CH4稳定
    D.Cl和Br属于第ⅦA族元素,HClO4酸性比HBrO4弱
    5. 下列说法都正确的是:.
    ① 合金材料中可能含有非金属元素
    ② 四川灾区重建使用了大量钢材,钢材是合金
    ③ “钡餐”中使用的硫酸钡是弱电解质
    ④ 太阳能电池板中的硅在元素周期表中处于金属与非金属的交界位置
    ⑤ 人造纤维,合成纤维和光导纤维都是有机高化合物
         A. ①②③      B ③④⑤       C ①②④    D  全部
    6. 称取两份铝粉,第一份加入足量的浓氢氧化钠溶液,第二份加入足量的稀盐酸,如果要放出 相同的气体(在同温同压下),两份铝的质量之比为:
    A.1︰2         B.1︰3       C.3︰2         D.1︰1
    7. 列物质中,既能与盐酸反应又能与氢氧化钠溶液反应的是:
        ①NaHCO3    ②Al     ③Al2O3     ④Al(OH)3   ⑤CuO
       A、①②③④        B、②③④⑤       C、①③④⑤         D、①③④
    8.  今有A、B两种原子,A原子的M层比B原子的M层少3个电子,B原子的L层电子数恰为A原子L层电子数的2倍。A和B分别是:
     A.硅原子和钠原子  B。硼原子和氦原子  C。氯原子和碳原子   D碳原子和铝原子
    二、双选题(每小题有两个选项合符题意,两个全对得4分,少选得2分,
    多选、错选得0 分)
    9.  下列关于物质的分类、性质、用途说法全部正确的是:
    A.玻璃—混合物                                 B.硅单质—光纤材料
    C.二氧化硅—半导体材料                         D.高锰酸钾溶液—氧化性    
    10. 若aAn+与bBz-两种离子的电子层结构相同,其核外电子数为x,则下列说法正确的是:
        A  a=b    B  a-n=b+z   C   b= x+z    D   a=x+z
    11.   下列物质能发生铝热反应的是:
    A  铝和氧化镁的混合物     B  铝和二氧化锰的混合物
    C  氧化铝与镁的混合物     D  氧化铜和铝的混合物
    12.   下列排列 顺序中,正确的是 :
        A 稳定性 :HI<HBr<HCl             B  酸性:Al(OH)3<H2SiO3<H2CO3
        C 碱性 :LiOH >Be(OH)2>Mg(OH)2    D  氧化性:H+>Cu2+>Ag+
    13.  硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
     (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:


     
     

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